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什么是SADP工艺？

什么是 SADP 工艺？

SADP（Self-Aligned Double Patterning，自对准双重图形化）
是一种利用 spacer刻蚀图形，从而将线距（pitch）缩小为原来的 1/2 的技术。

一句话总结：

光刻一次 → 通过一轮 spacer → 得到两倍密度的图形（pitch ÷ 2）。

SADP 是 SAQP（四重图形化）的基础步骤，也是最常用、最成功的多重图形化技术之一。

SADP 工艺流程

Step 1：Core Patterning（光刻 + 刻蚀 core）

使用光刻做出 core（硬掩膜）

Step 2：Spacer Deposition（沉积 spacer）

以 ALD 或 CVD 方式覆盖在 core 的表面

材料如 SiN / SiO₂ / SiC

要求：
完全 conformal
厚度精准（决定最终线宽）

Step 3：Spacer Etch（各向异性刻蚀）

去除顶部、底部

只保留侧壁 spacer

结果：

spacer core spacer

此时结构 pitch 大约为原来的 1/2。

Step 4：Core Removal（去除 core）

去掉中间 core，留下两条 spacer

这些 spacer 就是新的 mask

Step 5：Pattern Transfer（图形转移到底层）

利用 spacer 作为最精细的掩膜

刻蚀到硬掩膜或底层薄膜

完成最终 p = p₀ / 2 的线条。

SADP 与 SAQP 的关系

也就是说：

SAQP = SADP × 2（第二轮 spacer 继续分裂）